АвтоАвтоматизацияАрхитектураАстрономияАудитБиологияБухгалтерияВоенное делоГенетикаГеографияГеологияГосударствоДомДругоеЖурналистика и СМИИзобретательствоИностранные языкиИнформатикаИскусствоИсторияКомпьютерыКулинарияКультураЛексикологияЛитератураЛогикаМаркетингМатематикаМашиностроениеМедицинаМенеджментМеталлы и СваркаМеханикаМузыкаНаселениеОбразованиеОхрана безопасности жизниОхрана ТрудаПедагогикаПолитикаПравоПриборостроениеПрограммированиеПроизводствоПромышленностьПсихологияРадиоРегилияСвязьСоциологияСпортСтандартизацияСтроительствоТехнологииТорговляТуризмФизикаФизиологияФилософияФинансыХимияХозяйствоЦеннообразованиеЧерчениеЭкологияЭконометрикаЭкономикаЭлектроникаЮриспунденкция

Короткі теоретичні відомості. До луг відносять складні речовини - гідроксиди, при дисоціації яких у водяних розчинах відщеплюється тільки один вид аніонів — гідроксид-іони OH- [Ba(OH)2

Читайте также:
  1. IX. У припущенні про розподіл ознаки по закону Пуассона обчислити теоретичні частоти, перевірити погодженість теоретичних і фактичних частот на основі критерію Ястремського.
  2. Азербайджанська Республіка: загальні відомості
  3. Виникнення і природа свідомості
  4. Виникнення і природа свідомості. Свідомість і мова.
  5. Виникнення свідомості
  6. Властивості наукової свідомості людини та систематизація науки
  7. Гідність як категорія моральної свідомості
  8. Деформації правосвідомості
  9. Деякі відомості з історії анатомічної термінології
  10. Ємельянова І. Апеляційний і касаційний перегляд судових рішень в цивільному судочинстві: теоретичні та практичні аспекти // Право України. – 2004.–№2.
  11. Загальні відомості
  12. Загальні відомості

До луг відносять складні речовини - гідроксиди, при дисоціації яких у водяних розчинах відщеплюється тільки один вид аніонів — гідроксид-іони OH- [Ba(OH)2, NaOH, КОН, Fe(OH)3 і ін.].

Гідроксиди-луги підрозділяються на розчинні й нерозчинні. Розчинні луги – це гідроксиди лужних і лужноземельних металів. Найпоширеніша серед лугів речовина - гідроксид натрію NaOH («їдкий натр»). По масштабах виробництва й застосування він займає серед неорганічних речовин третє місце після сірчаної кислоти й соди. У промисловості його одержують електролізом розчину хлориду натрію.

У результаті реакцій лугів з кислотами середовище розчину стає нейтральним. Незалежно від склад реагуючих лугів і кислот, всі реакції нейтралізації виражаються тим самим іонним рівнянням:

 

H+ + OH- = H2O.

 

Реакції нейтралізації фіксуються по зміні фарбування індикаторів.

Основним напівпровідниковим матеріалом мікроелектроніки є кремній.

Кремній- елемент IV групи Періодичної системи елементів Д.І. Менделєєва. Його атомний номер 14, а атомна маса 28 атомних одиниць. Температура плавлення 1420 °С, густина 2,33 г/cм3 у твердому стані й 2,53 г/cм3 – у розплавленому. Кремній не розчинний у воді, стійкий до кислот, але легко розчиняється в гарячих лугах, наприклад, у КОН.

Кремній поширений елемент на Землі, вміст його в земній корі становить 29,5%. У природі кремній зустрічається тільки в сполуках у вигляді двоокису й у солях кремнієвих кислот.

У сполуках кремній схильний проявляти ступінь окислювання +4 або -4. Тому у всіх сполуках, крім оксиду кремнію (II) SiO, кремній чьотирьохвалентний.

Хімічно кремній малоактивний. При кімнатній температурі реагує тільки з газоподібним фтором. При нагріванні до температури 400…500 ºC кремній реагує з киснем з утворенням діоксида SiO2.

З воднем кремній безпосередньо не реагує, сполуки кремнію з воднем - силани з загальною формулою SinH2n+2 одержують непрямим шляхом.

В кремнієвих технологіях водяні розчини лугів - (10...20%) NaOH або його аналога КOH («їдкий калі») використовують для травлення кремнію.

Хімічне травлення – це процес взаємодії хімічних реагентів з поверхнею оброблюваного матеріалу. Хімічне травлення видаляє тонкий поверхневий шар кристалічного кремнію за допомогою хімічних реакцій.



Травлення кремнію в лужних розчинах починається при температурі розчину більше 60 °С. Звичайне травлення кремнію в лужних сполуках проводять при температурі 90…100 °С. Реакція йде в 2 стадії:

Si+2KOH+H2O = K2SiO3+2H2

K2SiO3+2H2O↔H2SiO3+2KOH.

Обробка в лужних травниках не дає дзеркальної поверхні кремнію. Тому даний вид травників використовують у тих випадках, коли потрібно витравити на поверхні підкладки лунку певної форми.

Швидкість травлення підвищується на ділянках, де кристалічна решітка деформована або містить підвищену концентрацію домішок. Такими ділянками є границі кристалічних зерен в полікристалічному матеріалі. Тому лужне травлення використовують для виявлення міжзеренних границь в полікристалічному кремнії (рис. 5.1).

 

Рисунок 5.1 – Кристалічні зерна в полікристалічному кремнії, виявлені за допомогою лужного травлення


1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 | 10 |


При использовании материала, поставите ссылку на Студалл.Орг (0.004 сек.)