АвтоАвтоматизацияАрхитектураАстрономияАудитБиологияБухгалтерияВоенное делоГенетикаГеографияГеологияГосударствоДомДругоеЖурналистика и СМИИзобретательствоИностранные языкиИнформатикаИскусствоИсторияКомпьютерыКулинарияКультураЛексикологияЛитератураЛогикаМаркетингМатематикаМашиностроениеМедицинаМенеджментМеталлы и СваркаМеханикаМузыкаНаселениеОбразованиеОхрана безопасности жизниОхрана ТрудаПедагогикаПолитикаПравоПриборостроениеПрограммированиеПроизводствоПромышленностьПсихологияРадиоРегилияСвязьСоциологияСпортСтандартизацияСтроительствоТехнологииТорговляТуризмФизикаФизиологияФилософияФинансыХимияХозяйствоЦеннообразованиеЧерчениеЭкологияЭконометрикаЭкономикаЭлектроникаЮриспунденкция

Фотопроводимость, фотоэффект в p-n переходах и МДП-структурах

Читайте также:
  1. Нарисуйте вольтамперную характеристику внешнего фотоэффекта. Укажите на рисунке силу тока насыщения, задерживающую разность потенциалов.
  2. Применение фотоэффектов в технике
  3. Тепловое излучение. Фотоэффект

Поглощение света, как уже отмечалось ранее может привести к появлению в разрешенных зонах избыточных носителей, которые в присутствии электрического поля принимают участие в переносе заряда (рис.14.3,а). Эту дополнительную проводимость называют фотопроводимостью (впервые наблюдалась в Se У. Смитом в 1837 г.), а само явление — внутренним фотоэффектом. Максимальная длина волны, при которой свет ещё вызывает фотопроводимость называется длинноволновой границей внутреннего фотоэффекта, рис.14.3,б.

Эта длина волны в зависимости от механизма поглощения света приближенно рассчитывается по формулам:

lmax=сh/DE или lmax=ch/Eп, (14.3)

где DE — ширина запрещенной зоны, Eп — энергия активации примесных атомов или собственных дефектов кристаллической решетки (Eп соответствует энергии переходов типа 3, 4 на рис.14.1). Подбором полупроводника и его примесного состава можно создавать фотоэлементы (фотосопротивления или фоторезисторы), чувствительные к свету в широком диапозоне от ультрафиолетовой до далекой инфракрасной области спектра. В частности, наиболее чувствительные фотосопротивления в видимой области спектра изготавливают из сульфида кадмия (фотопроводимость может в 105-106 раз превышать темновую проводимость), они находят заметное применение в экспонометрах, автоматических затворах фотоаппаратов и т.д. Для инфракрасного диапазона широко используются фотосопротивления из сернистого свинца.

 

Кроме того, при поглощении свободными носителями длинноволнового ИК-излучения происходит увеличение их энергии (“разогрев” электронного газа), что приводит к изменению подвижности этих носителей заряда и, следовательно, к изменению электропроводности (подвижностная электропроводность).

При применении фотосопротивлений надо учитывать плавный спад фототока при переходе в область малых длин волн (рис.14.3,б). Это объясняется тем, что при большом показателе собственного поглощения весь свет поглощается в поверхностном слое кристалла, где очень велика скорость рекомбинации носителей заряда. Вследствие этого, время жизни свободных носителей заряда уменьшается и, следовательно, падает их концентрация и фототок.

Как правило, время жизни (существования) неравновесных носителей заряда значительно превосходит время их термализации, и поэтому кинетическая энергия неравновесных носителей соответствует средней тепловой энергии равновесных носителей заряда. В этом случае можно считать, что подвижность u неравновесных и равновесных носителей одинакова, поскольку в основном она определяется распределением носителей заряда по энергиям.

Тогда фотопроводимость дается выражением:

Dσ=qunDn+qupDp, (14.4)

где Dn и Dp — концентрации фотоэлектронов и фотодырок, q — заряд электрона. Через фотосопротивление, включенное по схеме рис.14.3,а, протекает фототок:

IΦ = A DsU, (14.5)

где А — коэффициент, определяемый геометрическими размерами фото-чувствительного слоя. Отношение IΦ к потоку излучения Φ, падающего на фотосопротивление, получило название токовой чувствительности SI=IΦ/Φ.

Другими важными взаимосвязанными параметрами фотоматериала является квантовый выход внутреннего фотоэффекта h1, определяемый числом неравновесных носителей (пар), которые создаются каждым поглощенным фотоном и скорость генерации G, которая представляет собой число носителей, создаваемых светом в единице объема за секунду. Фототок пропорционален Φ (рис.14.3,в) и напряженности поля (или напряжению). При больших световых потоках IΦ стремится к насыщению, так как время жизни электронов может уменьшаться, например, из-за увеличения при освещении концентрации носителей противоположного заряда.

Фотосопротивления не мгновенно откликаются на включения и выключения света, рис.14.4. Подобная инерционность может иметь различное происхождение (в частности, определяться захватом носителей на ловушки, центры, удерживающие некоторое время свободные электроны или дырки), она обычно характеризуется постоянными времени нарастания и спада фототока. Если фототок уменьшается по закону IΦ=Imaxexp(-t/t2), то t2 соответствует времени за которое фототок уменьшается в е раз. Если рост тока происходит по закону IΦ=Imax(1-exp(-t/t1)), то t1 - постоянная времени нарастания фототока. Постоянные времени t1 и t2 могут несколько отличаться, но имеют обычно один порядок (10-2 - 10-7 с).

Остановимся теперь кратко на работе фотоэлемента с запирающим слоем и фотодиода. Оба прибора являются полупроводниковыми диодами, в которых на границе р- и n-областей (т.е. в запирающем слое) происходит разделение неравновесных носителей заряда, созданных светом. В темноте между p- и n-областями диода существует контактная разность потенциалов jk (рис.14.5,а), при этом в состоянии термодинамического равновесия положение уровня Ферми EF во всей системе остается постоянным, и cуммарный ток основных и неосновных

носителей заряда через переход равен нулю. При этом в области шириной d0 присутствует контактное поле.

Если на p-n переход направить поток фотонов с энергией большей, чем ширина запрещенной зоны, то в нем и около него возникают пары электрон-дырка. Пары, генерируемые в области d0 разделяются электрическим полем, при этом электроны движутся в область с n-типом проводимости, а дырки — в область полупроводника р-типа (рис.14.5,б). Кроме того, вследствие диффузии в переход попадают электроны, созданные светом в слое L1 левее перехода и дырки из слоя L2.

Неосновные носители заряда, которые устремляются через переход, создают обратный ток IΦ. С другой стороны, разделение зарядов при отсутствии внешней цепи приводит к понижению потенциального барьера на величину qVΦ, где VΦ — фото-э.д.с.

В результате через переход пойдет прямой ток I, который как известно из теории p-n перехода, определяется выражением:

I=Iн [exp(qV/kT) - 1], (14.6)

 

где Iн — ток насыщения в темноте, V — внешнее напряжение на переходе. В состоянии равновесия встречные токи IΦ и I равны, поэтому

IΦ =Iн [ exp(qVΦ / kT) - 1]. (14.7)

 

Отсюда можно определить фото-э.д.с. VΦ, которая возникает в освещенном p-n переходе, невключенном в электрическую цепь (вентильный фотоэлемент)

VΦ= (kT/q)ln(1+ IΦ/ Iн). (14.8)

 

Так как IΦ~Φ, то из 14.8 следует нелинейная зависимость VΦ(“напряжение холостого хода”) от Φ, рис.14.5,в.

Если освещаемый диод включен в электрическую цепь и к нему подведено внешнее напряжение V, то в цепи течет ток:

I = Iн (e qV/kT - 1) - IΦ. (14.9)

 

При коротком замыкании фотодиода (V=0) ток во внешней цепи равен I=-IΦ, т.е. обусловлен только потоком носителей, созданных светом и разделяемых контактом перехода. Обычно к фотодиоду прикладывается обратное смещение, причем достаточно большое, так что в этом случае ток будет:

I = - Iн - IΦ. (14.10)

 

Рассмотренные фотоэлементы широко используются для преобразования энергии солнечного света в электрическую (солнечные батареи на основе p-n переходов в кремнии).

Для записи оптических сигналов применяют фотодетекторы, имеющие, например, структуру металл-диэлектрик-полупроводник n-типа (МДП). Если к этой структуре приложить напряжение V (минус на металле), то часть электронов выводится из приконтактной области полупроводника n-типа, что приводит к появлению слоя положительного объемного заряда толщиной d. Возникающие при освещении МДП структуры электроны отводятся в объем полупроводника, а дырки скапливаются у границы с диэлектриком. Число этих дырок (общий положительный заряд) зависит от интенсивности света и времени его действия. Накопленный заряд, а следовательно и информация, заданная светом, может долго сохраняться, а затем считываться, например, в результате сканирования электронным пучком по матрице фотодетекторов.

 


1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 | 10 | 11 | 12 | 13 | 14 | 15 | 16 | 17 | 18 | 19 | 20 | 21 | 22 | 23 | 24 | 25 | 26 | 27 | 28 | 29 | 30 | 31 | 32 | 33 | 34 | 35 | 36 | 37 | 38 | 39 | 40 | 41 | 42 | 43 | 44 | 45 | 46 | 47 | 48 |

Поиск по сайту:



Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав. Студалл.Орг (0.004 сек.)