|
|||||||
АвтоАвтоматизацияАрхитектураАстрономияАудитБиологияБухгалтерияВоенное делоГенетикаГеографияГеологияГосударствоДомДругоеЖурналистика и СМИИзобретательствоИностранные языкиИнформатикаИскусствоИсторияКомпьютерыКулинарияКультураЛексикологияЛитератураЛогикаМаркетингМатематикаМашиностроениеМедицинаМенеджментМеталлы и СваркаМеханикаМузыкаНаселениеОбразованиеОхрана безопасности жизниОхрана ТрудаПедагогикаПолитикаПравоПриборостроениеПрограммированиеПроизводствоПромышленностьПсихологияРадиоРегилияСвязьСоциологияСпортСтандартизацияСтроительствоТехнологииТорговляТуризмФизикаФизиологияФилософияФинансыХимияХозяйствоЦеннообразованиеЧерчениеЭкологияЭконометрикаЭкономикаЭлектроникаЮриспунденкция |
Короткі теоретичні відомості. До луг відносять складні речовини - гідроксиди, при дисоціації яких у водяних розчинах відщеплюється тільки один вид аніонів — гідроксид-іони OH- [Ba(OH)2До луг відносять складні речовини - гідроксиди, при дисоціації яких у водяних розчинах відщеплюється тільки один вид аніонів — гідроксид-іони OH- [Ba(OH)2, NaOH, КОН, Fe(OH)3 і ін.]. Гідроксиди-луги підрозділяються на розчинні й нерозчинні. Розчинні луги – це гідроксиди лужних і лужноземельних металів. Найпоширеніша серед лугів речовина - гідроксид натрію NaOH («їдкий натр»). По масштабах виробництва й застосування він займає серед неорганічних речовин третє місце після сірчаної кислоти й соди. У промисловості його одержують електролізом розчину хлориду натрію. У результаті реакцій лугів з кислотами середовище розчину стає нейтральним. Незалежно від склад реагуючих лугів і кислот, всі реакції нейтралізації виражаються тим самим іонним рівнянням:
H+ + OH- = H2O.
Реакції нейтралізації фіксуються по зміні фарбування індикаторів. Основним напівпровідниковим матеріалом мікроелектроніки є кремній. Кремній - елемент IV групи Періодичної системи елементів Д.І. Менделєєва. Його атомний номер 14, а атомна маса 28 атомних одиниць. Температура плавлення 1420 °С, густина 2,33 г/cм3 у твердому стані й 2,53 г/cм3 – у розплавленому. Кремній не розчинний у воді, стійкий до кислот, але легко розчиняється в гарячих лугах, наприклад, у КОН. Кремній поширений елемент на Землі, вміст його в земній корі становить 29,5%. У природі кремній зустрічається тільки в сполуках у вигляді двоокису й у солях кремнієвих кислот. У сполуках кремній схильний проявляти ступінь окислювання +4 або -4. Тому у всіх сполуках, крім оксиду кремнію (II) SiO, кремній чьотирьохвалентний. Хімічно кремній малоактивний. При кімнатній температурі реагує тільки з газоподібним фтором. При нагріванні до температури 400…500 ºC кремній реагує з киснем з утворенням діоксида SiO2. З воднем кремній безпосередньо не реагує, сполуки кремнію з воднем - силани з загальною формулою SinH2n+2 одержують непрямим шляхом. В кремнієвих технологіях водяні розчини лугів - (10...20%) NaOH або його аналога КOH («їдкий калі») використовують для травлення кремнію. Хімічне травлення – це процес взаємодії хімічних реагентів з поверхнею оброблюваного матеріалу. Хімічне травлення видаляє тонкий поверхневий шар кристалічного кремнію за допомогою хімічних реакцій. Травлення кремнію в лужних розчинах починається при температурі розчину більше 60 °С. Звичайне травлення кремнію в лужних сполуках проводять при температурі 90…100 °С. Реакція йде в 2 стадії: Si+2KOH+H2O = K2SiO3+2H2↑ K2SiO3+2H2O↔H2SiO3+2KOH. Обробка в лужних травниках не дає дзеркальної поверхні кремнію. Тому даний вид травників використовують у тих випадках, коли потрібно витравити на поверхні підкладки лунку певної форми. Швидкість травлення підвищується на ділянках, де кристалічна решітка деформована або містить підвищену концентрацію домішок. Такими ділянками є границі кристалічних зерен в полікристалічному матеріалі. Тому лужне травлення використовують для виявлення міжзеренних границь в полікристалічному кремнії (рис. 5.1).
Рисунок 5.1 – Кристалічні зерна в полікристалічному кремнії, виявлені за допомогою лужного травлення Поиск по сайту: |
Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав. Студалл.Орг (0.003 сек.) |