|
|||||||
АвтоАвтоматизацияАрхитектураАстрономияАудитБиологияБухгалтерияВоенное делоГенетикаГеографияГеологияГосударствоДомДругоеЖурналистика и СМИИзобретательствоИностранные языкиИнформатикаИскусствоИсторияКомпьютерыКулинарияКультураЛексикологияЛитератураЛогикаМаркетингМатематикаМашиностроениеМедицинаМенеджментМеталлы и СваркаМеханикаМузыкаНаселениеОбразованиеОхрана безопасности жизниОхрана ТрудаПедагогикаПолитикаПравоПриборостроениеПрограммированиеПроизводствоПромышленностьПсихологияРадиоРегилияСвязьСоциологияСпортСтандартизацияСтроительствоТехнологииТорговляТуризмФизикаФизиологияФилософияФинансыХимияХозяйствоЦеннообразованиеЧерчениеЭкологияЭконометрикаЭкономикаЭлектроникаЮриспунденкция |
Методы выращивания пламенной плавкой по ВернейлюМетод разработан для выращивания тугоплавких кристаллов, у которых температура плавления Тпл.³ 1500-2500°C; рубин, корунд и т.д. Al2O3+C2O3 Tпл.=2030°C Рисунок 38. Схема выращивания кристаллов из расплава по методу Вернейля. 1 – вибратор, 2 – подвес, 3 – бункер, 4 – исходный материал, 5 – сетка, 6 – ввод О2, 7 – ввод H2, 8 – затравка, 9 – кристаллодержатель. Сущность метода. В бункер загружают смесь порошка Al2O3+1…3% Cr2O3 в виде порошков с зернистостью от1-20мкм. Под действием встряхивающего устройства порошок через сетку попадает в пламя кислородоводородной горелки. Благодаря малым размерам частицы смеси расплавляются в высокотемпературной зоне пламени и попадают на затравочный кристалл. Затравка предварительно оплавляется без подачи шихты и образует слой расплава, удерживающаяся силами поверхностного натяжения. H2:O2=3:1. Затравка, медленно вращаясь, опускается и на выходе из высокотемпературной зоны нагревателя происходит кристаллизация окиси Al из расплава на поверхности затравки, что обеспечивает рост кристалла. Затем в струю попадает встряхиваемая смесь порошков, которые расплавляются и в расплавленном состоянии попадают в образованный расплав, который кристаллизуется по мере опускания затравки и образует на затравке кристалл. Выращенные кристаллы имеют форму обратного конуса. Полученные кристаллы обязательно отжигаются во избежание трещин и внутренних напряжений. Отжиг производится в вакуумных электропечах в графитовых тиглях. Температура отжига 1900°C в течение нескольких часов. Охлаждение с печью 50°/час. Преимущества: отсутствие тигля, не требуются герметичные камеры или вакуум. Недостатки: так как толщина слоя расплава мала и его подпитка происходит непрерывно за счет порошка исходной смеси, возможность регулирования процесса достаточно трудно осуществима.
Метод зонной кристаллизации (или зонной плавки) Применяется для получения тугоплавких кристаллов и полупроводниковых кристаллов высокой чистоты. Поиск по сайту: |
Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав. Студалл.Орг (0.002 сек.) |