|
|||||||
АвтоАвтоматизацияАрхитектураАстрономияАудитБиологияБухгалтерияВоенное делоГенетикаГеографияГеологияГосударствоДомДругоеЖурналистика и СМИИзобретательствоИностранные языкиИнформатикаИскусствоИсторияКомпьютерыКулинарияКультураЛексикологияЛитератураЛогикаМаркетингМатематикаМашиностроениеМедицинаМенеджментМеталлы и СваркаМеханикаМузыкаНаселениеОбразованиеОхрана безопасности жизниОхрана ТрудаПедагогикаПолитикаПравоПриборостроениеПрограммированиеПроизводствоПромышленностьПсихологияРадиоРегилияСвязьСоциологияСпортСтандартизацияСтроительствоТехнологииТорговляТуризмФизикаФизиологияФилософияФинансыХимияХозяйствоЦеннообразованиеЧерчениеЭкологияЭконометрикаЭкономикаЭлектроникаЮриспунденкция |
Активация поверхностей диэлектриков
Химическое осаждение металла на поверхность диэлектриков можно проводить после каталитической активации или непосредственно на подготовленные поверхности ПП. При каталитической активации диэлектрики обрабатывают за одну или две ступени. При двухступенчатой активизации ПП хорошо очищают в специальных растворах, причем особое внимание обращают на обезжиривание. Если печатные платы имеют отверстия особо малых диаметров, то их необходимо очищать в ультразвуковых ваннах. Следующим шагом является подтравливание Для создания чистой металлической поверхности медные слои подтравливают, например, в персульфате аммония Это подтравливание придает медным поверхностям шероховатость, улучшающую их сцепление с наносимыми далее слоями. После травления поверхность необходимо хорошо промыть, декапировать1 и, наконец, еще раз промыть. Затем следует первый шаг активации — сенсибилизация. Для этого платы опускают на 2—3 мин в солянокислый раствор дихлорида олова (10 г/л SnCl2-2H2O и 40 мл/л НС1 концентрированной). Чтобы предотвратить разрушение раствора в результате гидролиза, необходимо поддерживать высокую концентрацию кислоты. Постепенное разбавление сенсибилизирующей ванны водой, остающейся на платах после промывки, предотвращают, предварительно погружая заготовку в 10%-ную НС1. Время работы сенсибилизирующей ванны можно существенно повысить, добавляя в нее гранулы олова. После сенсибилизации платы промывают в течение 2—3 мин. При этом на их поверхности образуется нерастворимая и несмываемая гидроокись олова:
SnCl2 + 2H2O → Sn(OH)2 + 2 НС1
Часть дихлорида олова образует продукты гидролиза с кислородом (Sn—О—Sn—О—), которые адсорбируются на поверхности. Теперь во второй ванне можно проводить непосредственно активацию. Сенсибилизированные платы погружают при комнатной температуре примерно на 2 мин в солянокислый раствор дихлорида палладия (0,5 г/л PdCl2 и 3 мл/л НС1 концентрированной). Адсорбированные на поверхности плат ионы олова восстанавливают ионы палладия:
Sn2+ + Pd2+ → Sn4+ + Pd
Атомы палладия являются высокоактивным катализатором для химической металлизации на поверхности диэлектрика. После активации необходимо хорошо промыть заготовки, чтобы не загрязнять ванны химической металлизации. Управление ванной (концентрацией реактивов, величиной рН), чистота ванны (содержание и виды примесей) и степень предварительной очистки плат определяют качество покрытия поверхности палладием, а вместе с тем качество последующей химической металлизации. При одноступенчатой активации предварительная обработка остается такой же. Одноступенчатая активация проводится в коллоидном растворе, который содержит НС1, катионы Sn2+, Sn4+ и Pd в коллоидной форме (0,1—1 г/л). Наиболее распространенный состав:
Одноступенчатую активацию проводят при комнатной температуре. Ванну не подвергают регенерации, а эксплуатируют до полной выработки, после чего составляют заново. Для покрытия 100 м2 поверхности необходимо примерно 2 г палладия. При одноступенчатой активации в ванне происходят те же процессы, что и при двухступенчатой активации. При погружении ПП в ванну зародыши палладия, как и катионы Sn2+ и Sn4+, адсорбируются одновременно. При последующей промывке ПП в результате реакции воды с ионами Sn получаются гидроксилхлориды и четырехвалентные соединения олова. При промывке продукты гидролиза удаляются. Палладий остается адсорбированным и служит катализатором для инициирования химической металлизации. Наряду с методом активации, основанным на каталитическом действии, известен еще один вариант, при котором адгезия обеспечивается непосредственным осаждением на слой смолы. Если слой меди наносится бестоковым осаждением, то на поверхности диэлектрика должен находиться слой смолы, не армированный стекловолокном, толщиной не менее 50 мкм. Перед осаждением необходима специальная предварительная обработка. Для этого печатные платы погружают в органические растворители, просушивают и протравливают в смеси хромовой и серной кислот. При этом на их поверхностях создаются микронеровности. Затем можно проводить бестоковую металлизацию в обыкновенной восстановительной ванне. _________________________________ 1 Декапирование — это кратковременное травление непосредственно перед дальнейшей обработкой Поиск по сайту: |
Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав. Студалл.Орг (0.004 сек.) |