Дефекты кристаллической решетки
Дефекты кристаллической решетки можно в основном разделить на три группы: точечные, линейные и поверхностные.
1. Точечные
В определенных условиях атомы могут покидать кристаллическую решетку, образуя вакансии-дефекты по Шоттки, рис 8.6(1). Энергия образования вакансии E V » 1 эВ.
Равновесное число таких дефектов определяется соотношением
, (8.14)
где - число узлов кристаллической решетки в данном объеме (атомы одного сорта).
Возможен и переход атомов в междоузельные положения с генерацией так называемых дефектов Френкеля. Энергия образования таких дефектов Ei обычно больше, чем дефектов Шотки. Равновесное число дефектов Френкеля описывается соотношением
, (8.15)
где - число междоузельных позиций в исследуемом объеме.
Точечные дефекты образует также примесь внедрения и замещения. Дефекты основного вещества могут перемещаться, такой процесс называется самодиффузией. Введение примеси путем диффузии называется легированием, путем облучения материала ионами - ионной имплантацией.
1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 | 10 | 11 | 12 | 13 | 14 | 15 | 16 | 17 | 18 | 19 | 20 | 21 | 22 | 23 | 24 | 25 | 26 | 27 | 28 | 29 | 30 | 31 | 32 | 33 | 34 | 35 | 36 | 37 | 38 | 39 | 40 | 41 | 42 | 43 | 44 | 45 | 46 | 47 | 48 | Поиск по сайту:
|